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中野義昭
教授 中野 義昭 Professor NAKANO, Yoshiaki 情報デバイス E-mail Office 3号館3階305号室 Tel FAX Link Nakano Laboratoryのページへ 1987年3月 東京大学... |
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霜垣幸浩
しもがき ゆきひろ
霜垣 幸浩 SHIMOGAKI Yukihiro 東京大学
大学院工学系研究科・工学部
マテリアル工学専攻
マテリアルプロセス講座
准教授 半導... |
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高木信一
受賞者紹介 高木 信一 (たかぎ しんいち)昭和34年8月25日生まれ 東京大学大学院新領域創成科学研究科基盤科学研究系 基盤情報学専攻 教授 昭和57年 東京大... |
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竹中充
Home > 研究者紹介 > 竹中 充
2008年度採択
光配線LSI実現に向けたGeナノ... |
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幸田清一郎
日本の化学者。上智大学教授。東京大学名誉教授。専門は、反応化学、反応工学、超臨界流体、無機工業化学。 |
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山本剛久
山本 剛久やまもとたかひさ/准教授/基盤科学研究系 物質系専攻/マテリアル・機能設計学講座/ナノ構造設計学分野
http://cdv.t.u-tokyo.ac.jp/
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森田明弘
森田明弘 所属・連絡先 東北大学 大学院理学研究科 化学専攻 〒980-8578 仙台市青葉区荒巻字青葉6−3
tel: (-7717
fax: (-7716
e-mail: morita(学外からは... |
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種村拓夫
種村拓夫プロフィール 講師 先端科学技術研究センター 情報デバイス分野 大学院 工学系研究科 電子工学専攻 駒場 先端研3号館303号室 内線 55153, ... |
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寒川誠二
寒川 誠二(サムカワ セイジ)
東北大学 流体科学研究所 教授
〒980-8577 宮城県仙台市青葉区片平2−1−1
Tel: Fax:
E-mail: |
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藤田博之
TOA、セイコーエプソン、日本DEC、日本エリクソンなどの電機、コンピュータ、通信機器メーカでソフトウェア開発を担当してきた。
2002年7月、日本エリ... |
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中野貴之
「機械加工NC技術科」の修了生を採用した企業の声
中野 貴之 代表取締役 Q:製品や加工技術を紹介ください A: ヤマザキマザックのインテグレックス等の複... |
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百瀬健
杉山 正和(東京大学) (超臨界製膜グループ) 霜垣 幸浩(東京大学) 山田 英雄(デンソー) 百瀬 健(東京大学) (ナノチューブ配列グループ)... |
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三田吉郎
三田 吉郎 (みた よしお) 東京大学 工学系研究科 電気工学専攻 准教授 東京大学 大規模集積システム設計教育研究センター(VDEC) 若手協力教員 略歴 1972年9月... |
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大津元一
ヘルプ 大津元一 研究者情報 研究者情報 研究業績一覧 姓 大津 OHTSU 名 元一 MOTOICHI 状態 本学を転出・卒業 所属組織 東京工業大学 大学... |
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幾原雄一
ヘルプ 幾原 雄一 研究者情報 研究者情報 研究業績一覧 姓 幾原 Ikuhara 名 雄一 Yuichi 状態 本学以外の組織に在籍 所属組織 東北大学原子... |
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三宅秀人
氏名 みやけ ひでと
三宅 秀人 所属 三重大学
工学部
電気電子工学科
電子物性工学
准教授 所属先住所 〒514-8507 津市上浜町1515 ReaD [Re... |
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杉山進
杉山 進さん
生年月日 昭和7年(1932年)4月10日、長野県下高井郡豊郷村(現在の野沢温泉村)生まれ。
長野電鉄に勤務し、全日本スキー選手権のアルペンスキー... |
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萩尾望都
日本の漫画家。福岡県大牟田市生まれ。埼玉県飯能市在住。血液型はO型。代表作は『ポーの一族』、『トーマの心臓』、『11人いる!』、『残酷な神が支配する』... |
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高田宏
高田宏(たかだひろし、1932年8月24日-)は日本の作家・随筆家。 |
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保立和夫
教授 名前 保立 和夫 Kazuo HOTATE 職名 教授 Email 出身地 東京都 研究テーマ 安全・安心の為のファイバセンサフォトニクス-光ファイバ神経網技... |
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プロフィール
杉山 正和-SUGIYAMA, Masakazu Profile 東京大学大学院工学系研究科 総合研究機構
准教授(電子工学専攻 兼務)
1972年4月10日生まれ
静岡県田方郡函南町出身
〒113-8656 東京都文京区弥生2-11-16
TEL: FAX:
E-mail:sugiyama[at-mark]ee.t.u-tokyo.ac.jp
([at-mark] を @ に変えてください) 経歴 学歴 1995年3月 東京大学工学部化学システム工学科 卒業1997年3月 東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻修士課程 修了2000年3月 同 博士課程修了 博士(工学) 職歴 1997年4月 日本学術振興会特別研究員に採用(2000年3月31日まで)2000年4月 東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻助手2002年5月 東京大学大学院工 ... もっと見る
杉山 正和-SUGIYAMA, Masakazu Profile 東京大学大学院工学系研究科 総合研究機構
准教授(電子工学専攻 兼務)
1972年4月10日生まれ
静岡県田方郡函南町出身
〒113-8656 東京都文京区弥生2-11-16
TEL: FAX:
E-mail:sugiyama[at-mark]ee.t.u-tokyo.ac.jp
([at-mark] を @ に変えてください) 経歴 学歴 1995年3月 東京大学工学部化学システム工学科 卒業1997年3月 東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻修士課程 修了2000年3月 同 博士課程修了 博士(工学) 職歴 1997年4月 日本学術振興会特別研究員に採用(2000年3月31日まで)2000年4月 東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻助手2002年5月 東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻講師2005年4月 東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻助教授2006年4月 東京大学大学院工学系研究科総合研究機構助教授 学位 2000年3月28日 博士(工学) 研究歴 化合物半導体(InGaAsP)ドライエッチングプロセスの反応機構解析・反応工学的モデル化(卒業論文)化合物半導体(InGaAsP)有機金属気相成長(MOCVD)プロセスの反応機構解析・化学流体シミュレーションによる成長速度の予測(修士論文)ULSI配線用Al有機金属気相成長プロセスの反応素過程解析・第1原理量子化学計算の結果に基づく素反応シミュレーションによる成長速度の予測(博士論文,1997〜2000)ULSI配線用Al有機金属気相成長プロセスにおける表面モフォロジー形成機構の解析・プロセス改善の提案(1997〜2002)金属・半導体ナノ粒子のレーザー光を用いたサイズ制御・光学素子への応用(2000〜2003)有機物の超臨界水酸化反応の素反応解析・化学流体シミュレーション(2000〜2003)化合物半導体(InGaAsP)有機金属気相成長(MOCVD)プロセスのマルチスケールモデリング(2002〜現在)選択MOCVDを用いた半導体光デバイスのモノリシック集積化・選択成長プロセスのT-CAD構築(2002〜現在)超臨界流体を媒体とする新規薄膜成長プロセスの構築,光電子デバイス・マイクロマシン等への応用(2002〜現在) ▲このページのトップへ 戻る
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